Tungsten (vi) kloridaadalah senyawa anorganik yang terdiri dari elemen tungsten dan klorin, dengan formula kimia WCl ₆. Tampaknya sebagai bubuk kristal halus biru atau biru tua dan mudah larut dalam karbon disulfida dan pelarut organik seperti eter, etanol, benzena, dan karbon tetraklorida. Ini sensitif terhadap kelembaban dan mudah terurai oleh air panas. Saat dipanaskan, itu akan dioksidasi oleh oksigen di udara, menghasilkan tungsten oxychloride (wocl ₄, wo ₂ cl ₂) atau tungsten oksida. Tungsten heksakhloride yang mengandung tungsten oxychloride sangat rentan terhadap dekomposisi oleh uap air. Dalam kondisi suhu tinggi, dapat dikurangi dengan gas hidrogen untuk mengendapkan bubuk tungsten. Ini dapat digunakan untuk pengendapan uap logam tungsten untuk meningkatkan kekerasan dan ketahanan aus dari permukaan material. Dalam industri elektronik, ini adalah bahan baku yang penting untuk memproduksi kawat tungsten kristal tunggal. Ini juga dapat digunakan untuk membentuk lapisan konduktif di permukaan kaca untuk meningkatkan konduktivitasnya. Ini memiliki kinerja katalitik yang baik dan dapat digunakan sebagai katalis untuk polimerisasi olefin untuk mempromosikan reaksi sintesis organik. Dalam industri kimia, digunakan untuk pemurnian tungsten dan sintesis senyawa organik untuk meningkatkan kualitas produk dan efisiensi reaksi. Ini juga banyak digunakan dalam industri seperti pertanian, teknik kimia, katalisis minyak bumi, dan kaca pintar.
Informasi tambahan senyawa kimia:
|
Formula Kimia |
Cl6w |
|
Massa yang tepat |
393.76 |
|
Berat molekul |
396.54 |
|
m/z |
395.76(100.0%),397.76(92.8%),393.76(86.5%),397.76 (79.9%),399.76(74.1%),395.76(69.1%),393.76(52.1%),395.77(48.4%), 394.76 (46.7%), 391.76 (45.1%), 396.76 (37.3%), 399.76 (34.1%), 401.76 (31.6%), 397.75 (29.4%), 392.76 (24.4%), 398.75 (15.9%), 401.75 (8.2%), 403.76 (7.6%), 399.75 (7.1%), 400.75 (3.8%), 403.75 (1.0%) |
|
Analisis unsur |
Cl, 53.64; W, 46.36 |
|
Titik lebur |
275 derajat (lit.) |
|
Titik didih |
347 derajat (lit.) |
|
Kepadatan |
3,52 g/ml pada 25 derajat (lit.) |
|
|
 |
Tungsten (vi) klorida, dengan formula kimia WCL ₆, adalah senyawa anorganik yang penting. Ini memainkan peran penting dalam berbagai bidang seperti teknik kimia, ilmu material, dan industri elektronik karena sifat kimianya yang unik dan berbagai aplikasi. Berikut ini adalah kegunaannya:
Aplikasi di bidang teknik kimia
Ini dapat digunakan sebagai reagen untuk berpartisipasi dalam berbagai reaksi organik, seperti reaksi terhalogenasi, reaksi penambahan, dll. Dalam reaksi halogenasi, tungsten heksaklorida dapat mengalami reaksi substitusi dengan atom hidrogen dalam senyawa organik untuk membentuk senyawa terhalogenasi. Reaksi ini memiliki aplikasi luas dalam sintesis organik dan dapat digunakan untuk menyiapkan senyawa seperti hidrokarbon terhalogenasi dan alkohol terhalogenasi. Selain reaksi, tungsten hexachloride dapat mengalami reaksi tambahan dengan senyawa tak jenuh seperti olefin dan alkin untuk menghasilkan produk tambahan. Reaksi ini juga sangat penting dalam sintesis organik dan dapat digunakan untuk menyiapkan senyawa seperti alkohol, eter, keton, dll. Ini juga dapat berfungsi sebagai katalis untuk mempromosikan berbagai reaksi organik. Seperti disebutkan sebelumnya, tungsten hexachloride menunjukkan kinerja katalitik yang sangat baik dalam polimerisasi olefin, reaksi esterifikasi, reaksi isomerisasi, dan reaksi oksidasi. Dengan menyesuaikan kondisi reaksi dan dosis katalis, tingkat reaksi dan selektivitas produk dapat dikontrol, menghasilkan senyawa organik dengan sifat yang berbeda. Ini juga bertindak sebagai ligan untuk membentuk senyawa organik logam dengan ion logam.
Peran dalam sintesis anorganik
Tungsten hexachloride dapat digunakan sebagai bahan baku atau perantara untuk berpartisipasi dalam berbagai reaksi anorganik. Ini adalah salah satu bahan baku penting untuk menyiapkan senyawa tungsten lainnya. Melalui reaksi kimia, tungsten hexachloride dapat dikonversi menjadi senyawa seperti tungsten oksida, tungsten karbida, dan tungsten nitrida. Senyawa ini memiliki aplikasi luas di bidang seperti ilmu material dan industri elektronik. Misalnya, tungsten oksida dapat digunakan untuk menyiapkan bahan fotokatalitik, sensor gas, dll; Tungsten carbide dapat digunakan untuk menyiapkan alat pemotong paduan keras, cetakan, dll. Ini juga dapat berpartisipasi dalam berbagai reaksi anorganik sebagai perantara. Sebagai contoh, dalam persiapan senyawa anorganik kompleks tertentu, tungsten heksaklorida dapat direaksi terlebih dahulu dengan senyawa lain untuk membentuk perantara, dan kemudian produk target dapat diperoleh melalui reaksi lebih lanjut. Metode ini sangat penting dalam sintesis anorganik dan dapat digunakan untuk menyiapkan bahan anorganik dengan struktur dan sifat tertentu.
Deposisi uap adalah teknik modifikasi permukaan material yang umum digunakan yang dapat membentuk lapisan padat pada permukaan substrat. Tungsten hexachloride adalah salah satu bahan baku penting untuk menyiapkan pelapis tungsten dengan metode pengendapan uap. Dengan menggunakan metode seperti deposisi uap kimia (CVD) atau deposisi uap fisik (PVD), tungsten hexachloride dapat didekomposisi menjadi logam tungsten dan lapisan tungsten padat dapat dibentuk pada permukaan substrat. Lapisan ini memiliki kekerasan tinggi, ketahanan aus yang tinggi, dan konduktivitas yang baik, dan banyak digunakan di bidang seperti alat pemotong, cetakan, dan komponen elektronik. Kawat tungsten kristal tunggal adalah bahan elektronik yang penting dengan titik leleh yang tinggi, resistivitas tinggi, dan stabilitas termal yang baik. Tungsten hexachloride adalah salah satu bahan baku penting untuk memproduksi kawat tungsten kristal tunggal.
Aplikasi dalam persiapan material dan perawatan permukaan
Tungsten hexachloride dapat dikonversi menjadi kawat tungsten kristal tunggal melalui metode seperti deposisi uap kimia atau deposisi uap fisik. Kawat tungsten kristal tunggal ini memiliki berbagai aplikasi di bidang seperti emisi elektron dan sumber elektron panas. Ini juga dapat digunakan untuk membentuk lapisan konduktif di permukaan kaca. Dengan menggunakan metode seperti deposisi uap kimia atau pengendapan uap fisik, tungsten heksaklorida dapat diendapkan pada permukaan kaca untuk membentuk film tungsten yang padat. Lapisan konduktif ini memiliki transparansi tinggi, resistivitas rendah, dan adhesi yang baik, dan banyak digunakan di bidang seperti layar sentuh dan sel surya. Selain itu, lapisan konduktif tungsten hexachloride juga dapat digunakan untuk menyiapkan bahan baru seperti kaca pintar, mencapai penyesuaian otomatis transmitansi kaca.
Aplikasi di bidang industri elektronik
Dalam industri elektronik, tungsten banyak digunakan dalam pembuatan berbagai komponen elektronik karena titik leleh yang tinggi, kekerasan tinggi, konduktivitas yang baik, dan stabilitas termal.Tungsten (vi) klorida, sebagai bahan baku penting untuk menyiapkan pelapis tungsten, dapat membentuk pelapis tungsten padat pada permukaan substrat melalui metode seperti deposisi uap kimia (CVD) atau deposisi uap fisik (PVD). Lapisan tungsten ini memiliki kekerasan tinggi, resistensi keausan yang tinggi, dan konduktivitas yang baik, yang secara signifikan dapat meningkatkan kinerja dan umur komponen elektronik. Misalnya, dalam pembuatan perangkat semikonduktor, tungsten hexachloride dapat digunakan untuk menyiapkan lapisan penghalang difusi. Lapisan penghalang difusi adalah lapisan kunci yang mencegah atom pengotor dari menyebar pada permukaan chip semikonduktor, dan memiliki dampak yang signifikan pada kinerja dan keandalan perangkat. Melalui deposisi uap kimia, tungsten hexachloride dapat terurai menjadi tungsten logam dan membentuk lapisan penghalang tungsten padat pada permukaan chip semikonduktor, secara efektif mencegah difusi atom pengotor.
Aplikasi dalam pembuatan perangkat mikroelektronik
Dalam pembuatan sirkuit terintegrasi, interkoneksi logam adalah komponen utama yang menghubungkan berbagai komponen elektronik. Tungsten hexachloride dapat digunakan sebagai salah satu bahan baku untuk menyiapkan interkoneksi logam, membentuk lapisan logam tungsten padat pada permukaan chip melalui metode seperti deposisi uap kimia. Lapisan logam tungsten ini memiliki konduktivitas dan stabilitas termal yang baik, yang dapat memenuhi permintaan untuk interkoneksi logam berkinerja tinggi di sirkuit terintegrasi. Dalam pembuatan sirkuit terintegrasi, lubang kontak dan melalui lubang adalah saluran utama untuk menghubungkan komponen elektronik di berbagai tingkat. Tungsten hexachloride dapat digunakan sebagai salah satu bahan baku untuk mengisi lubang kontak dan melalui lubang, membentuk lapisan logam tungsten yang padat di lubang melalui metode seperti deposisi uap kimia. Lapisan logam tungsten ini memiliki pengisian dan konduktivitas yang baik, yang secara signifikan dapat meningkatkan kinerja dan keandalan sirkuit terintegrasi.
Dalam industri elektronik, perawatan konduktif permukaan kaca adalah salah satu langkah utama untuk mencapai kontak yang baik antara komponen kaca dan elektronik. Tungsten hexachloride dapat digunakan sebagai salah satu bahan baku untuk agen perlakuan konduktif, membentuk lapisan logam tungsten padat pada permukaan kaca melalui metode seperti pengendapan uap kimia. Lapisan logam tungsten ini memiliki konduktivitas dan adhesi yang baik, yang dapat mencapai kontak yang baik antara komponen kaca dan elektronik, dan meningkatkan kinerja dan keandalan komponen elektronik. Tungsten hexachloride juga memainkan peran penting dalam proses pengemasan dan interkoneksi perangkat mikroelektronik. Misalnya, dalam kemasan chip flip, tungsten hexachloride dapat digunakan sebagai salah satu bahan baku untuk bahan pengikat, membentuk lapisan logam tungsten padat antara chip dan substrat melalui metode seperti pengendapan uap kimia. Lapisan logam tungsten ini memiliki konduktivitas dan stabilitas termal yang baik, yang dapat mencapai interkoneksi yang baik antara chip dan substrat, dan meningkatkan kinerja dan keandalan perangkat paket.
Eksplorasi di bidang aplikasi yang muncul
Dengan perkembangan cepat perangkat elektronik yang fleksibel, permintaan untuk kinerja tinggi dan bahan elektronik stabilitas tinggi meningkat dari hari ke hari.Tungsten (vi) klorida, sebagai bahan elektronik dengan sifat listrik yang sangat baik dan stabilitas termal, telah menunjukkan prospek aplikasi yang luas dalam persiapan perangkat elektronik yang fleksibel. Misalnya, tungsten hexachloride dapat digunakan untuk menyiapkan komponen kunci seperti elektroda fleksibel dan interkoneksi fleksibel, memberikan dukungan kuat untuk pengembangan perangkat elektronik yang fleksibel. Teknologi integrasi tiga dimensi adalah salah satu cara penting untuk meningkatkan tingkat integrasi dan kinerja sirkuit terintegrasi. Tungsten hexachloride, sebagai bahan elektronik dengan pengisian dan konduktivitas yang sangat baik, memainkan peran penting dalam implementasi teknologi integrasi tiga dimensi. Sebagai contoh, tungsten hexachloride dapat digunakan untuk mengisi melalui lubang dan kontak lubang dalam struktur terintegrasi tiga dimensi, mencapai interkoneksi yang baik antara komponen elektronik pada tingkat yang berbeda dan meningkatkan kinerja dan keandalan sirkuit terintegrasi.
Tag populer: tungsten (vi) chloride cas 13283-01-7, pemasok, produsen, pabrik, grosir, beli, harga, curah, untuk dijual