Metoksi propanoldan etilen glikol eter termasuk dalam pelarut alkohol eter biner, yang merupakan cairan tidak berwarna dan transparan. Toksisitas propilen glikol eter terhadap tubuh manusia lebih rendah dibandingkan produk etilen glikol eter, dan termasuk dalam eter dengan toksisitas rendah. Propilen glikol metil eter memiliki bau eter yang samar, namun tidak berbau menyengat, sehingga lebih banyak digunakan dan aman. Karena struktur molekulnya mengandung gugus eter dan gugus hidroksil, ia memiliki kelarutan yang sangat baik, laju penguapan dan aktivitas reaksi yang sesuai, dan telah banyak digunakan. Hal ini terutama digunakan sebagai pelarut yang sangat baik untuk nitroselulosa, resin alkid dan resin fenolik termodifikasi anhidrida maleat, sebagai antibeku untuk bahan bakar jet dan aditif untuk minyak rem; Hal ini terutama digunakan sebagai pelarut, pendispersi dan pengencer, dan juga sebagai bahan bakar antibeku dan ekstraktan.
|
Rumus Kimia |
C4H10O2 |
|
Massa Tepat |
90 |
|
Berat Molekul |
90 |
|
m/z |
90 (100.0%), 91 (4.3%) |
|
Analisis Unsur |
C, 53.31; H, 11.18; O, 35.51 |
|
|
|
Metode persiapanMetoksi Propanol(biasanya lebih tepat disebut sebagai propilen glikol monometil eter) dijelaskan sebagai berikut:
(1) Persiapan bahan baku:
Dapatkan epiklorohidrin dan metanol sebagai reaktan.
Siapkan katalis, yaitu tanah diatom yang dibubuhi besi klorida. Diantaranya, berat besi klorida adalah 2% dari berat epiklorohidrin.
(2) Pengaturan perangkat:
Pilih wadah yang cocok untuk reaksi-tekanan tinggi dan-suhu tinggi, seperti reaktor-tekanan tinggi.
Siapkan sistem kontrol suhu dan tekanan untuk bejana reaksi untuk memastikan kontrol suhu dan tekanan reaksi yang tepat.
(1) Pencampuran bahan baku:
Campurkan epoksi propana dan metanol secara merata dengan perbandingan molar 1:3.
(2) Tambahkan katalis:
Tambahkan katalis tanah diatom yang telah disiapkan dan dibubuhi besi klorida ke dalam campuran reaksi.
(3) Reaksi pemanasan:
Panaskan campuran reaksi hingga 190 derajat.
Pertahankan tekanan reaksi pada 1,5 MPa (atau 1500 kPa).
Waktu reaksi adalah 50 menit.
Distilasi vakum: Setelah reaksi selesai, campuran reaksi dilakukan distilasi vakum untuk memisahkan propilen glikol monometil eter.
Distilasi bertekanan rendah membantu menurunkan suhu distilasi, sehingga mengurangi dekomposisi produk termosensitif.
(1) Penentuan hasil: Hasil propilen glikol monometil eter ditentukan dengan penimbangan atau metode lain yang sesuai, dan hasilnya adalah 98,2%.
(2) Pengujian kemurnian: Gunakan kromatografi atau teknik analisis lainnya untuk menguji kemurnian produk, dan memperoleh kemurnian 99,1%.
PenerapanMetoksi Propanol(juga dikenal sebagai 1-metoksi-2-propanol, disingkat PGME) dalam fotoresist semikonduktor adalah bidang yang penting dan terspesialisasi di antara banyak kegunaannya. Photoresist adalah bahan yang sangat diperlukan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutama digunakan untuk fabrikasi mikro sirkuit terpadu dan perangkat diskrit semikonduktor. Ia juga memiliki berbagai aplikasi dalam proses produksi layar panel datar, LED, sandal jepit, kepala magnet, dan sensor presisi. Propilen glikol metil eter, sebagai komponen pelarut penting dari photoresist, memainkan peran penting dalam kinerja dan proses pembuatan photoresist.
Photoresist, juga dikenal sebagai photoresist, terdiri dari komponen utama dan pelarut. Pelarut utama yang saat ini digunakan untuk photoresist adalah propilen glikol metil eter asetat (PMA), namun propilen glikol metil eter (PGME) juga digunakan sebagai pelarut atau pelarut tambahan dalam beberapa formulasi photoresist. Komponen utama photoresist meliputi resin, monomer, fotoinisiator, dan aditif. Diantaranya, kandungan resin menyumbang sekitar 50% hingga 60% dari komponen utama, dan kandungan monomer menyumbang sekitar 35% hingga 45%. Prinsip photoresist adalah menggunakan sumber cahaya seperti sinar ultraviolet, laser excimer, berkas elektron, berkas ion, sinar X-, dll untuk menyinari atau memancar, menyebabkan perubahan kelarutannya, sehingga membentuk pola yang diinginkan pada wafer silikon.
2. Peran Propilen Glikol Metil Eter Dalam Fotoresist
(1) Tindakan pelarut:
Propilen glikol metil eter terutama digunakan sebagai pelarut dalam photoresist. Ini dapat melarutkan fotosensitizer padat dan aditif untuk membentuk campuran cair, memastikan kemampuan aliran fotoresist yang baik. Fluiditas ini sangat penting untuk keseragaman pelapisan photoresist pada permukaan wafer melalui teknologi pelapisan spin.
(2) Menyesuaikan viskositas:
Penambahan propilen glikol metil eter dapat mengatur viskositas photoresist sehingga lebih cocok untuk proses pelapisan tertentu. Penyesuaian viskositas yang tepat membantu memastikan distribusi photoresist yang seragam selama proses pelapisan, menghindari timbulnya gelembung dan cacat.
(3) Meningkatkan kinerja pelapisan:
Propilen glikol metil eter memiliki volatilitas sedang dan dapat dengan cepat menguap selama proses pelapisan, meninggalkan film fotoresis yang seragam dan padat. Ini membantu meningkatkan daya rekat dan ketahanan korosi photoresist.
(4) Pengaruh terhadap efek litografi:
Beberapa sifat fisik dan kimia propilen glikol metil eter, seperti titik didih, kelarutan, dan tegangan permukaan, dapat berdampak tertentu pada efek litografi fotoresist. Misalnya, titik didih yang tepat dapat memastikan bahwa photoresist tidak merusak pola selama pemaparan karena penguapan pelarut yang cepat.
3. Aplikasi Khusus Propilen Glikol Metil Eter Dalam Fotoresist Semikonduktor
(1) Fotoresist kelas atas:
Dalam photoresist kelas atas, propilen glikol metil eter dapat digunakan sebagai pelarut tambahan atau aditif. Fotoresist ini biasanya digunakan untuk memproduksi perangkat semikonduktor dengan integrasi lebih tinggi dan struktur yang lebih kompleks. Penambahan propilen glikol metil eter dapat meningkatkan kinerja pelapisan dan efek litografi photoresist, sehingga meningkatkan hasil dan kinerja perangkat.
(2) fotoresist ArF:
Fotoresist ArF adalah salah satu bahan utama yang digunakan untuk pembuatan perangkat semikonduktor dengan node proses 7nm ke bawah.
Propilen glikol metil eter dapat digunakan sebagai pelarut atau aditif dalam fotoresist ArF untuk meningkatkan kinerja pelapisan dan efek litografinya. Fotoresist ArF memiliki kebutuhan pelarut yang sangat tinggi, dan sifat tertentu dari propilen glikol metil eter menjadikannya pilihan yang cocok.
(3) Jenis fotoresist lainnya:
Selain photoresist ArF, propilen glikol metil eter juga dapat digunakan pada jenis photoresist lain, seperti photoresist KrF, photoresist i-line, dll. Photoresist ini memiliki rentang aplikasi dan persyaratan proses yang berbeda dalam proses pembuatan semikonduktor. Penambahan propilen glikol metil eter dapat mengatur kinerja dan efek pelapisan photoresist sesuai dengan kebutuhan spesifik.
4. Pengaruh Propilen Glikol Metil Eter Terhadap Proses Pembuatan Semikonduktor
(1) Meningkatkan efisiensi produksi:
Penambahan propilen glikol metil eter dapat meningkatkan kinerja pelapisan dan efek litografi photoresist, sehingga meningkatkan efisiensi produksi perangkat semikonduktor. Pelapisan yang seragam dan pola litografi yang jelas membantu mengurangi cacat dan tingkat pengerjaan ulang, sehingga memperpendek siklus produksi.
(2) Mengurangi biaya produksi:
Dengan mengoptimalkan formulasi dan proses pelapisan photoresist, biaya produksi perangkat semikonduktor dapat dikurangi. Sebagai salah satu komponen penting photoresist, penggunaan propilen glikol metil eter secara rasional dapat mengurangi limbah dan kerugian yang tidak perlu, sehingga menurunkan biaya produksi.
(3) Meningkatkan kinerja perangkat:
Peningkatan kinerja photoresist oleh propilen glikol metil eter membantu meningkatkan kinerja perangkat semikonduktor. Misalnya, pelapisan yang lebih seragam dan pola litografi yang lebih jelas dapat mengurangi parameter parasit seperti resistansi dan kapasitansi perangkat, serta meningkatkan kinerja seperti kecepatan dan konsumsi daya.
(4) Mempromosikan peningkatan teknologi:
Dengan terus berkembangnya teknologi semikonduktor, kebutuhan akan photoresist juga semakin meningkat. Pengenalan pelarut dan aditif baru seperti propilen glikol metil eter dapat mendorong peningkatan dan kemajuan teknologi fotoresist, membawa lebih banyak peluang inovasi dan pengembangan ke bidang manufaktur semikonduktor.
Metoksi Propanol, sebagai salah satu komponen penting fotoresist semikonduktor, memiliki prospek penerapan dan keunggulan yang luas dalam proses pembuatan semikonduktor. Dengan mengoptimalkan formulasi dan proses pelapisan photoresist, efisiensi produksi dan kinerja perangkat semikonduktor dapat ditingkatkan, serta biaya produksi dapat dikurangi. Namun, masalah lingkungan dan keselamatannya juga perlu mendapat perhatian yang cukup. Di masa depan, dengan perkembangan teknologi semikonduktor yang berkelanjutan dan meningkatnya kesadaran akan perlindungan lingkungan, pengenalan pelarut dan aditif baru seperti propilen glikol metil eter akan mendorong peningkatan dan kemajuan teknologi fotoresist, membawa lebih banyak peluang inovasi dan pengembangan ke bidang manufaktur semikonduktor. Pada saat yang sama, penelitian dan pengawasan terhadap perlindungan dan keselamatan lingkungan juga perlu diperkuat, untuk memastikan pengembangan berkelanjutan dari proses manufaktur semikonduktor dan keselamatan personel dan lingkungan.
Pertanyaan yang Sering Diajukan
Untuk apa metoksi propanol digunakan?
+
-
Metoksi propanol sebagian besar digunakan dalam pembuatan propilen glikol metil eter asetat (atau dikenal sebagai PMA) dan juga digunakan dalam produk industri dan komersial termasuk cat, pernis, tinta, resin sintetis dan perekat karet, serta pembersih otomotif dan oven.
Apakah metoksi propanol beracun?
+
-
1-Metoksi-2-propanol adalah racun ringan. Toksisitasnya lebih rendah dibandingkan metil, etil, dan butil eter dari etilen glikol. Gejala toksik akibat menghirup konsentrasi tinggi adalah mual, muntah, dan efek anestesi umum. Pada manusia, efek toksik dapat dirasakan pada paparan pada tingkat 3000–4000 ppm.
Untuk apa Metoksiisopropanol digunakan?
+
-
Kegunaan utama Methoxyisopropanol adalahdalam cat. Nama lain untuk Methoxyisopropanol termasuk 1-metoksi-2-hidroksipropana, 1-metoksi-2-propanol dan Propylene Glycol Monomethyl Ether (PGME).
Untuk apa meoksipropana digunakan?
+
-
Dipasarkan dengan nama dagang Metopryl dan Neothyl, methoxypropane digunakansebagai pengganti dietil eterkarena potensinya yang lebih besar. Penggunaannya sebagai anestesi telah digantikan oleh eter terhalogenasi modern yang lebih tidak mudah terbakar.
Untuk apa metoksifenol digunakan?
+
-
Metoksifenol digunakandalam pembuatan antioksidan, dan obat-obatan. 2- Metoksifenol digunakan sebagai ekspektoran dan perasa sintetis.
Apakah propanol berbahaya bagi manusia?
+
-
Namun,hanya satu kasus keracunan mematikan oleh 1-propanol yang telah dilaporkan. Efek akut yang paling mungkin terjadi dari 1-propanol pada manusia adalah keracunan alkohol dan narkosis. Hasil penelitian pada hewan menunjukkan bahwa 1-propanol 2 - 4 kali lebih memabukkan dibandingkan etanol. 1-Propanol dapat mengiritasi kulit yang terhidrasi.
Apa efek samping Methoxyisopropanol?
+
-
Dapat menyebabkan kantuk atau pusing. H226 Cairan dan uap mudah terbakar. H336 Dapat menyebabkan kantuk atau pusing. P210 Jauhkan dari panas, permukaan panas, percikan api, nyala api terbuka dan sumber penyulutan lainnya.
Tag populer: metoksi propanol cas 107-98-2, pemasok, produsen, pabrik, grosir, beli, harga, massal, untuk dijual