Shaanxi BLOOM Tech Co., Ltd. adalah salah satu produsen dan pemasok hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3 yang paling berpengalaman di Cina. Selamat datang di grosir hexamethyldisilazane (hmds) cas 999-97-3 berkualitas tinggi dalam jumlah besar untuk dijual di sini dari pabrik kami. Pelayanan yang baik dan harga yang wajar tersedia.
Heksametildisilazana (HMDS), cairan transparan tidak berwarna. Mudah dihidrolisis, melepaskan NH3, dan menghasilkan heksametildisilana. Dengan adanya katalis, ia bereaksi dengan alkohol atau fenol menghasilkan trimetilkoksisilana atau trimetilariloksisilana. Bereaksi dengan hidrogen klorida anhidrat untuk melepaskan NH3 atau NH4Cl untuk menghasilkan trimetilklorosilan. Ini dapat dibuat dengan mereaksikan trimetilklorosilan dengan NH3. Ini dapat digunakan sebagai zat perawatan hidrofobik untuk permukaan silika berasap dan reagen untuk menghasilkan atom N dalam reaksi sintesis organik, sebagai zat tambahan untuk serat silikon karbida, untuk meningkatkan ketahanan panas dan kekuatan serat silikon karbida, dan sebagai zat anti presipitasi untuk pelapis. Ini juga digunakan untuk menyiapkan senyawa organosilikon.
|
|
|
|
Rumus Kimia |
C6H19NSi2 |
|
Massa Tepat |
161.11 |
|
Berat Molekul |
161.40 |
|
m/z |
161.11 (100.0%), 162.11 (6.5%), 162.11 (5.1%), 162.11 (5.1%), 163.10 (3.3%), 163.10 (3.3%) |
|
Analisis Unsur |
C, 44,65; H, 11,87; N, 8.68; Ya, 34.80 |
Heksametildisilazana (HMDS)(Nomor CAS: 999-97-3), sebagai senyawa silikon organik multifungsi, telah menunjukkan nilai yang tak tergantikan di berbagai bidang seperti kedokteran, semikonduktor, sintesis organik, dan modifikasi material karena struktur ikatan nitrogen silikon (Si-N) yang unik dan reaktivitas yang tinggi.
Penerapan HMDS di bidang farmasi mencapai 64%, dan merupakan reagen inti untuk sintesis antibiotik, obat anti-tumor, obat antivirus, dan pembawa obat yang ditargetkan. Nilai intinya tercermin dalam fungsi ganda perlindungan kelompok dan aktivasi reaksi:
Sintesis antibiotik
- antibiotik laktam (seperti penisilin dan sefalosporin): HMDS melindungi gugus hidroksil atau amino melalui silanisasi, mencegah zat antara utama terurai dalam kondisi asam atau suhu-tinggi. Misalnya, dalam sintesis antibiotik sefalosporin, HMDS melindungi gugus hidroksil dari 7-asam aminosefalosporat (7-ACA), sehingga meningkatkan hasil reaksi dari 65% menjadi 89% sekaligus mengurangi pembentukan produk sampingan.
Antibiotik aminoglikosida (seperti amikasin dan kanamisin): HMDS melindungi gugus amino untuk memastikan stabilitas jalur reaksi. Dalam sintesis amikasin, pengenalan HMDS meningkatkan kemurnian zat antara dari 92% menjadi 98%, sehingga meningkatkan efisiensi produksi skala besar secara signifikan.
obat antineoplastik
Fluorourasil (5-FU): HMDS melindungi gugus hidroksil zat antara obat melalui silanisasi, mengurangi reaksi samping oksidatif. Data percobaan menunjukkan bahwa setelah menggunakan HMDS, langkah sintesis fluorourasil disederhanakan dari 7 langkah menjadi 4 langkah, rendemen meningkat dari 58% menjadi 76%, dan kemurnian mencapai 99,5%.
Pembawa obat yang ditargetkan: HMDS dengan kemurnian tinggi digunakan untuk memodifikasi permukaan liposom atau nanopartikel polimer, meningkatkan biokompatibilitas dan penargetan. Misalnya, akumulasi pembawa obat anti-kanker yang dimodifikasi dalam jaringan tumor meningkat tiga kali lipat, dan toksisitas sistemik berkurang sebesar 40%.
obat antivirus
Azvudine: HMDS mengurangi risiko timbulnya pengotor dalam sintesis zat antara obat antivirus baru melalui reaksi perlindungan multi{0}}langkah. Studi praklinis menunjukkan bahwa pengenalan HMDS mengurangi kandungan pengotor zat antara dari 2,1% menjadi 0,3%, mendukung produksi skala besar-dengan kapasitas tahunan lebih dari 50 ton.
Industri semikonduktor: "ahli ikatan" teknologi fotolitografi
Di bidang semikonduktor,Heksametildisilazana (HMDS), sebagai bahan pengikat untuk pengetsa foto, meningkatkan akurasi pembuatan chip melalui teknologi modifikasi permukaan, yang mencakup 20% aplikasi. Mekanisme aksi intinya adalah:
Perawatan hidrofobisitas permukaan
HMDS disemprotkan ke permukaan wafer silikon dalam fase cair atau gas, dan ikatan nitrogen silikon mengembun dengan gugus silikon hidroksil (- Si OH) untuk membentuk lapisan silikon nitrida hidrofobik (sudut kontak meningkat dari 20 derajat menjadi 120 derajat ), yang meningkatkan daya rekat antara photoresist dan wafer silikon sebanyak tiga kali, mengurangi kedalaman penetrasi larutan etsa sebesar 80%, dan secara signifikan meningkatkan ketahanan terhadap korosi.
Aplikasi produk kelas elektronik
HMDS tingkat elektronik (kemurnian lebih besar atau sama dengan 99,999%) telah banyak digunakan di berbagai bidang seperti layar panel datar dan manufaktur chip. Misalnya, dalam pemrosesan wafer 12 inci, pemrosesan HMDS mengurangi laju pengupasan photoresist dari 15% menjadi 3%, mengontrol keseragaman lebar garis dalam ± 2nm, dan mendukung proses 5nm ke bawah.
Bahan organosilikon: pengubah utama untuk peningkatan kinerja
HMDS menyumbang 3% dari penerapan di bidang organosilikon, dan merupakan aditif inti untuk mengoptimalkan sifat bahan seperti karet silikon, minyak silikon, dan resin silikon.
Penguatan karet silikon
HMDS, sebagai bahan penyekat, bereaksi dengan gugus hidroksil di ujung rantai molekul karet silikon melalui ikatan nitrogen silikon untuk membentuk struktur-ikatan silang yang stabil. Eksperimen telah menunjukkan bahwa menambahkan 2% HMDS ke karet silikon meningkatkan kekuatan sobeknya sebesar 40%, memperluas rentang ketahanan suhu dari -50 derajat hingga 200 derajat hingga -80 derajat hingga 250 derajat, dan mengurangi set kompresi sebesar 50%.
Perawatan hidrofobik minyak silikon
HMDS bereaksi dengan gugus silanol pada permukaan-fase gas karbon hitam putih untuk membentuk lapisan silazana hidrofobik, meningkatkan sudut kontak minyak silikon dari 30 derajat menjadi 150 derajat dan mengurangi waktu penghilangan busa sebesar 60%. Ini banyak digunakan dalam pelapisan, kosmetik dan bidang lainnya.
Aditif pelumas suhu tinggi
HMDS digabungkan dengan molekul minyak pelumas untuk membentuk lapisan pelindung, mengurangi volatilitas sebesar 30%, memperpanjang periode induksi oksidasi sebanyak 2 kali, dan meningkatkan stabilitas termal hingga 300 derajat. Cocok untuk-lingkungan bersuhu tinggi seperti mesin pesawat terbang.
Perawatan permukaan material: "kunci utama" untuk modifikasi fungsional
HMDS mencapai optimalisasi kinerja dengan mengkondensasi gugus hidroksil pada permukaan bahan anorganik melalui ikatan nitrogen silikon, dengan proporsi aplikasi 8%.
Pengolahan bahan bubuk
Karbon hitam putih: Setelah perlakuan HMDS, luas permukaan spesifik menurun dari 200m ²/g menjadi 180m ²/g, fenomena aglomerasi berkurang sebesar 70%, dan dispersibilitas pada karet meningkat secara signifikan.
Bubuk titanium: Perawatan hidrofobisitas permukaan mengurangi laju pengendapan bubuk titanium dalam pelarut organik sebesar 90%, sehingga cocok untuk persiapan bubuk logam pencetakan 3D.
Modifikasi kain fiber
Perlakuan HMDS pada serat silikon karbida membentuk lapisan pelindung silikon nitrida, meningkatkan ketahanan panas serat dari 1200 derajat menjadi 1500 derajat dan tingkat retensi kekuatan dari 65% menjadi 85%. Ini banyak digunakan dalam material komposit luar angkasa.
Heksametildisilazana (HMDS)menyumbang 5% di bidang sintesis organik, dan aplikasi intinya meliputi:
Sintesis Monomer Klorosilan
HMDS mengalami reaksi pertukaran klorin dengan klorosilan (seperti oktametilsiklottrasiloksan) untuk menghasilkan polisilazana, dengan hasil 20% lebih tinggi dan konsumsi energi berkurang 30% dibandingkan dengan metode amonia langsung. Ini adalah metode penting untuk menyiapkan prekursor keramik.
Peredam ekor kromatografi gas
Sebagai cairan tetap, HMDS mengurangi aktivitas adsorpsi permukaan pembawa, meningkatkan simetri puncak sebesar 40%, dan mengurangi batas deteksi hingga 0,1 ppm. Ini banyak digunakan dalam pemantauan lingkungan, analisis obat, dan bidang lainnya.
Persiapan Sampel Mikroskop Elektron
HMDS, sebagai pengering titik kritis, menggantikan dehidrasi etanol tradisional, mengurangi penyusutan sampel hingga 80%, mempertahankan ultrastruktur sel, dan banyak digunakan dalam penelitian biomedis.
Ada lima proses sintetik utama untuk produk ini:
1. Trimethylsilane bereaksi dengan amonia melalui katalisis Pt atau Pd. Suhu reaksinya tinggi dan peralatannya ketat. Hasil panennya mencapai 95,8%.
2. Trimethylchlorosilane dibuat dari trimethylchlorosilane dengan mereaksikan dengan amonia dalam pelarut inert dan melakukan rektifikasi.
3. Dengan hexamethyldisiloxane sebagai bahan baku, ia bereaksi dengan asam sulfat pekat untuk menghasilkan silikon sulfat, dan silikon sulfat bereaksi dengan hidrogen klorida untuk menghasilkan trimetilklorosilana, dan kemudian melewatkan amonia untuk membuat HMDS.
4. Hexamethyldisiloxane bereaksi dengan fosfor pentoksida atau asam fosfat menghasilkan silikon fosfat, dan kemudian memasuki amonia untuk menghasilkan HMDS.
5. HMDS dibuat melalui reaksi heksametildisiloksana dan asam sulfat pekat untuk menghasilkan silikon sulfat langsung melalui gas amonia.
Saat ini, metode kedua terutama digunakan untuk produksi industri HMDS di Tiongkok. Metode ini menggunakan trimetilklorosilana sebagai bahan baku, direaksikan dengan amonia dalam pelarut inert, dan kemudian dibuat melalui distilasi.
Metode 1:
Tambahkan 630ml trimethylchlorosilane, 250ml hexamethyldisiloxane, 500ml benzene dan 500ml xylene ke dalam reaktor dengan agitator, termometer dan pengukur tekanan, lalu aduk rata. Gas amonia dimasukkan untuk reaksi amoniasi, dan perubahan keadaan material dalam labu diamati dengan cermat selama proses pemasukan gas amonia. Kontrol secara ketat laju aliran gas amonia, dan laju reaksi tidak boleh terlalu cepat untuk mencegah partikel garam membungkus trimetilklorosilan. Kontrol suhu reaksi Kurang dari atau sama dengan 80 derajat dan tekanan reaksi Kurang dari atau sama dengan 0,2Mpa. Setelah reaksi amoniasi, dinginkan bahan hingga 35 derajat dan tambahkan 800ml air untuk pencucian air pertama. Setelah dicuci, diamkan selama 5 menit dan keluarkan larutan berair NH4Cl di lapisan bawah secara bertahap. Tambahkan 400ml larutan kalium hidroksida 30% untuk mencuci fase organik. Setelah dicuci, diamkan selama 5 menit, lalu pisahkan fase air bagian bawah. Fase organik dicuci dengan 800ml air untuk kedua kalinya. Setelah pemisahan fasa, bahan atasnya adalah HMDS mentah. Selama proses pencucian, air cucian pertama adalah air cucian kedua setelah pencucian alkali. Produk mentah dikirim ke menara distilasi untuk memisahkan pelarut reaksi dan produk, dan terakhirheksametildisilazanadengan kandungan lebih besar atau sama dengan 99% diperoleh rendemen sebesar 89,99%.
Metode 2:
Metode pembuatan heksametildisiloksan dari heksametildisiloksan meliputi langkah-langkah berikut:
1) Masukkan 1000kg hexamethyldisiloxane ke dalam bejana reaksi dengan kapasitas 1500L, masukkan gas hidrogen klorida kering ke dalam bejana reaksi untuk bereaksi, dan hasilkan trimetilklorosilana dan air; Tekanan dalam bejana reaksi dikontrol sekitar 0,2MPa, suhu 30 derajat, dan kecepatan pengadukan dalam bejana reaksi adalah 65r/menit. Selama reaksi, air yang dihasilkan dibuang dari dasar bejana reaksi.
Ketika massa trimetilklorosilana dalam larutan campuran heksametildisiloksan dan trimetilklorosilan dalam bejana reaksi di atas menyumbang 30% massa larutan campuran, hentikan aliran gas hidrogen klorida, dan reaksi berakhir.
2) Pindahkan campuran hexamethyldisiloxane dan trimethylchlorosilane yang diperoleh di atas ke reaktor lain yang berkapasitas 3000L dan diaduk. Isi reaktor dengan amonia kering untuk menghasilkan heksametildisiloksan dan amonium klorida. Tekanan dalam reaktor sekitar 0,25MPa, suhu 35 derajat, dan waktu reaksi 5 jam.
3) Amonium klorida dalam produk reaksi pada langkah 2) dipisahkan melalui pengental pemisahan amonium klorida, dan kemudian residunya diperbaiki untuk menghilangkan heksametildisiloksan hingga akhirnya diperolehheksametildisilazana (HMDS).
Tag populer: hexamethyldisilazane(hmds) cas 999-97-3, pemasok, produsen, pabrik, grosir, beli, harga, massal, untuk dijual